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真空鍍膜中常用的方法有真空蒸發(fā)和離子濺射。真空蒸發(fā)鍍膜是在真空度不低于10-2Pa的環(huán)境中，用電阻加熱或電子束和激光轟擊等方法把要蒸發(fā)的材料加熱到一定溫度，使材料中分子或原子的熱振動能量超過表面的束縛能，從而使大量分子或原子蒸發(fā)或升華，并直接沉淀在基片上形成薄膜。離子濺射鍍膜是利用氣體放電產生的正離子在電場的作用下的高速運動轟擊作為陰極的靶，使靶材中的原子或分子逸出來而沉淀到被鍍工件的表面，形成所需要的薄膜。
真空蒸發(fā)鍍膜常用的是電阻加熱法，其優(yōu)點是加熱源的結構簡單，造價低廉，操作方便；缺點是不適用于難熔金屬和耐高溫的介質材料。電子束加熱和激光加熱則能克服電阻加熱的缺點。電子束加熱上利用聚焦電子束直接對被轟擊材料加熱，電子束的動能變成熱能，使材料蒸發(fā)。激光加熱是利用大功率的激光作為加熱源，但由于大功率激光器的造價很高，目前只能在少數研究性實驗室中使用。
濺射技術與真空蒸發(fā)技術有所不同?！盀R射”是指荷能粒子轟擊固體表面（靶），使固體原子或分子從表面射出的現象。射出的粒子大多呈原子狀態(tài)，常稱為濺射原子。用于轟擊靶的濺射粒子可以是電子，離子或中性粒子，因為離子在電場下易于加速獲得所需要動能，因此大都采用離子作為轟擊粒子。濺射過程建立在輝光放電的基礎上，即濺射離子都來源于氣體放電。不同的濺射技術所采用的輝光放電方式有所不同。直流二極濺射利用的是直流輝光放電；三極濺射是利用熱陰極支持的輝光放電；射頻濺射是利用射頻輝光放電；磁控濺射是利用環(huán)狀磁場控制下的輝光放電。濺射鍍膜與真空蒸發(fā)鍍膜相比，有許多優(yōu)點。如任何物質均可以濺射，尤其是高熔點，低蒸氣壓的元素和化合物；濺射膜與基板之間的附著性好；薄膜密度高；膜厚可控制和重復性好等。缺點是設備比較復雜，需要高壓裝置。此外，將蒸發(fā)法與濺射法相結合，即為離子鍍。這種方法的優(yōu)點是得到的膜與基板間有極強的附著力，有較高的沉積速率，膜的密度高。
怎么測量鍍鋁膜的厚度、牢度、均勻度
1、通常采用下述三種方法來測量鍍鋁膜的厚度：
A.光密度法:即以光線透過鍍鋁膜的密度來測量。用光密度法測量鍍鋁膜的厚度方便、準確。
B.采用表面方塊電阻測量法，這種方法比較簡單實用。通常來說，鋁層厚度對應的表面電阻一般在1~2之間。
C.目測估算法：即把兩層鍍鋁膜疊在一起對著日光燈或天空看，以看不見的光線為準，鍍層厚度應達400?以上。
2、鍍鋁牢度
一般是用膠帶來檢測鍍鋁牢度的。
具體方法為：把長約15cm的膠粘帶貼在鍍鋁面上并用手指壓平，然后用一只手壓住樣品，另一只手勻速剝離膠粘帶，再用帶強光的燈箱檢驗鋁層脫落轉移的情況便可。
或者把一種特別制備的試驗膜與PET鍍鋁膜按一定的熱封條件熱封，裁樣后再用拉伸試驗機剝離，測定剝離力并檢查熱封面積中的鋁層轉移情況。
3、鍍鋁膜鍍層的均勻度
電阻層電阻的偏差，實際就是反映了鍍鋁層的均勻度。沿被測樣品橫向等距離地取8~10個規(guī)格為100mm×100mm的試樣，用電阻測量儀分別測出方塊的電阻值，取其算數平均值，即為該試樣的鍍層電阻，再計算其電阻值的上、下偏差，便可知道鍍鋁膜鍍鋁層的均勻度。
鍍鋁膜由于它既具有塑料薄膜的特性，又具有金屬的特性，是一種價廉美觀、性能優(yōu)良、實用性強的包裝材料，因此，鍍鋁膜已經被廣泛地應用于食品、醫(yī)l藥、化工等產品的包裝，比如快餐食品、茶葉、咖啡和化妝品的包裝.
鍍鋁膜具有優(yōu)良的阻氣性、阻濕性、遮光性和保香性，不但對氧氣和水蒸汽有較強的阻隔性，而且?guī)缀蹩梢宰韪羲械淖贤饩€、可見光和紅外線，可以延長內容物的保存期和貨架壽命，此外，鍍鋁膜還具有保香性，香氣透過率小，能夠長久保持內容物的香氣不散失。因此，鍍鋁膜不失為一種優(yōu)良的阻隔性包裝材料。
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